제품소개
Coater
특징
1. 전해 연마나 화학연마로 대처 할 수 없는 시료표면의 연마에 최적인 장치
2. 전해 연마나 화학 연마 처리 후의 작업용 장치로서도 최적인 Ion Milling 장치
3. Ion Milling하기위한 특수한 시료제작이 필요 없음.
4. 고정도 Process. FIB장치에 비해 Cost Performance우수
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SPEC |
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Ion Gun Type |
DC Magnetron discharge type |
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Voltage & Current |
1~8keV / Max. 400㎂ |
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Beam diameter & Range |
Max. Φ4mm / Φ8mm(in case of Rotation) |
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Ultimate Pressure & Etching Speed |
10^-4Pa / Max. 20nm/min(Si board/8keV) |
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Chamber & Gas |
Inner diameter Φ160mm * H140MM(SUS)/ Ar Gas(Purity more than B/0.15MPa) |
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Stage |
T axis : -90˚ ~ +90˚ R axis : 360˚(Max.15RPM) |
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Dimensions & Weight |
520(W) X 310(D) X 280(H)mm, 25kg |
Utility Requirement | Single phase 100V 15A 50/60Hz 3P outlet |