HOME > 제품소개 > SANYU ELECTRON > Ion Milling 장치 SVM-730 Ion Milling 장치 *Cost Performance우수한시료표면의 연마에 최적인 장치 SVM-730 ① 전해 연마나 화학연마로 대처 할 수 없는 시료표면의 연마에 최적인 장치 ② 전해 연마나 화학 연마 처리 후의 작업용 장치로서도 최적인 Ion Milling 장치 ③ Ion Milling하기위한 특수한 시료제작이 필요없음 ④ 고정도 Process. FIB장치에 비해 Cost Performance우수 Type 직류 Magnetron 방전형 Ion Gun 인가전압 조사전류 Beam 직경 조사범위 1 ～ 8keV Max. 400μA Max. φ4mm φ8mm (회전시) Etching Speed 최대 20nm/min (Si 기판/8keV 시) 도입 Gas Ar Gas 사용 (순도 B 이상/0.15MPa) Chamber 부 내경 φ160mm×H140mm (SUS 제) Stage T축：　－90°～ ＋90° R축：　360°(Max. 15RPM) 시료 Size φ50mm×H23.5mm (단, φ100mm 장착 가능) 진공 Pump TMP： 50l/sec　　RP： 20l/min 도달 압력 10-4Pa 대 크기(W/D/H) 520/310/280mm (단, TMP 부를 포함할 경우 D：470mm) 중량 약 25kg (RP 제외) 소요 전원 단상 100V 15A 50/60Hz 3P 콘센트