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Ion Sputtering 장치
*Coating Mode/Etching Mode 탑재
SC-708
① 대형 기판의 전면 Coating에 대응한 Ion Sputtering 장치
② Sputter Target는 4"/5"/6"/7"/8"와 1inch 단위로 구별된 Size를 준비
③ Sputter 박막 제작, Micro Channel 유로형성 시의 PDMS 표면처리에도 대응
④ Coating Mode/Etching Mode 탑재
φ4~8inch / 2극 대칭 전극
0~50mA (전류계 부속)
0.8 / 1.4kV
Needle Valve
직결형 Rotary Pump:100l/min(자동 Leak)
내경φ240mm×D240mm(SUS 제)
전면 Door 개폐식
Max.φ4 ~8inch
중량:282/450/440mm
RP:460/175/265mm
중량:약20kg
RP:22kg