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HOME > 제품소개 > Photo Mask Repair System > SIR 5000 FIB |
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Mask Repair 장치 |
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SIR5000 FIB |
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반도체 Device용 Photo Mask나 Reticles상에 결함을 Focused Ion Beam을 이용 수정하는 장치로 Binary 및 Phase Shift Mask등의 Photo Mask상의 미세한 결함이나 복잡한 형상의 결함을 고정밀도 Low Damage로 수정하는 것이 가능합니다.
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① 신형 Ion 광학계를 채용 Beam Diameter를 극미세화하는 것에 성공했습니다. 기존의 장비에 비해 미세한 결함의 관찰및
수정이 가능해졌습니다.
② 수정 정밀도 15 nm(3σ)를 실현 고정밀의 수정이 가능합니다.
③ Windows 2000 base의 Operation System을 채용 신개발의 GUI 환경을 실현하였습니다.
④ 2차 Ion Image와 동시에, 2차 Electron Image을 이용한 관찰 및 수정을 실현하였습니다.
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Maximum 7.25 inches |
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Ga liquid metal ion source |
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Maximum 3Okv |
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15nm (3σ) |
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Secondary ion image, Secondary electron image |
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Under 360nm |
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