HOME > 제품소개 > Photo Mask Repair System > SIR 8000 FIBFIB
 
LCD Photo Mask Repair 장치
SIR 8000 FIB
LCD 포토마스크(Photo Mask)수정에 반도체용 포토마스크(Photo Mask) 결함 수정 장치에서 사용하고 있는 FIB (Focused Ion Beam) 수정 기술을 도입하여 white and black defects에 대한 높은 수정 정밀도를 실현하고 있습니다. FIB(Focused Ion Beam)를 이용한 Repair 장치로서는 처음으로 제7세대 이후의 FPD 대형 포토마스크(Photo Mask)에 대응하고 있습니다.
최대크기 1400×1600 mm , 최소크기 6 Inch
최대두께 15mm , 최소두께 5mm
Ga Liquid Metal ion Source
최대가속 전압 30kV
D.Lock : 50nm(3σ ,10um FOV) 조건 : 표준 Mask.
2차 전자 Image 및 2차 Ion Image
최소 수정가능 선폭 0.3um (10um FOV 사용)
선폭 0.36um 이상에서 1Point Drift 보정 가능.
12.5nm  (10um FOV 사용)
25.0nm  (20um FOV 사용)
50.0nm  (40um FOV 사용)
100nm   (80um FOV 사용)
150nm   (120um FOV 사용)